📋В Шэньчжэне в режиме строгой секретности построен прототип EUV‑литографа

@usstocksnews | YouTube | VK Видео |

Машина завершена в начале 2025 года, занимает почти весь цех, генерирует экстремальное УФ‑излучение (13,5 нм), но пока не производит полноценно работающие чипы.

Цель — выйти на массовое производство собственных передовых чипов к 2028–2030 году.

Проект во многом построен на reverse engineering: команда включает десятки бывших инженеров ASML китайского происхождения, многие из которых вышли на пенсию или уволились и были рекрутированы Китаем с крупными подъемными, жильём и гарантиями безопасности.

Китайские команды покупали старые установки ASML и компоненты на вторичном рынке и разбирали их для воспроизведения ключевых узлов.

Прототип пока огромен и менее точен, чем машины ASML: размер и мощность частично компенсируют отставание по оптике и источнику излучения.

Система нуждается в серьёзной доработке, и реалистичный горизонт — ближе к 2030 году.

Монополия ASML на зрелые серийные EUV‑машины пока сохраняется.

Но появление прототипа сокращает технологический разрыв и ослабляет рычаги экспортного контроля США в среднесрочной перспективе.

#asml #nvda #amd #intc #aapl #ssnlf

Переходи в чат t.me/USstocksnews_chat